X 射线荧光镀层测厚仪测量原理
来源：沧州欧谱 2019-8-8 9:57:31 点击：
符合 DIN ISO 3497 和 ASTM B 568 标准的能量色散式 X 射线荧光分析 (XRFA)
测量方法：
X 射线荧光分析的基础在于，当材料样品中的原子被初级 X 射线激发时，来自最内层电子层的电子将释放出来；所产生的空位由来自外层电子层的电子填充。
在电子跃迁的过程中，每种元素都会产生其特有的特征X射线荧光辐射。探测器可接收到该荧光辐射并能据此给出样品成分的相关信息。
测量方法：
X 射线荧光分析的基础在于，当材料样品中的原子被初级 X 射线激发时，来自最内层电子层的电子将释放出来；所产生的空位由来自外层电子层的电子填充。
在电子跃迁的过程中，每种元素都会产生其特有的特征X射线荧光辐射。探测器可接收到该荧光辐射并能据此给出样品成分的相关信息。
（本文来源：沧州欧谱，转载请注明出处 www.oupu17.com）
- 上一篇：分析涂层测厚仪测量数据不准的原因 2019/9/6
- 下一篇：校准在测量技术中发挥着至关重要的作用 2019/8/8
